Микроэлектроника
Microelectronics
Ультрачистая вода для производства полупроводников и электроники
Производство микросхем требует воду с удельным сопротивлением 18.2 МОм·см и минимальным содержанием частиц.
EDI для производства полупроводников
Требования к УЧВ
Стандарт SEMI F63 определяет требования к ультрачистой воде для полупроводниковой промышленности: TOC < 1 ppb, частицы > 0.05 мкм < 1/мл, бактерии < 0.1 КОЕ/л.
Ультрафильтрация для чистых комнат
Связанные материалы
Нужна консультация по водоподготовке?
Рассчитаем технологию, подберём оборудование и ответим на вопросы. Ответим в течение 24 часов.